光催化氧化设备厂家源头厂家
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OC废气处理设备从理论上讲,只要半导体吸收的光能不小于其带隙能,就足以激发产生电子和空穴,该半导体就有可能用作光催化剂,常见的单一化合物光催化剂多为金属氧化物或硫化物,如 Ti0。、Zn0、ZnS、CdS及PbS等。这些催化剂各自对特定反应有突出优点,具体研究中可根据需要选用,如CdS半导体带隙能较小,跟太阳光谱中的近紫外光段有较好的匹配性能,可以很好地利用自然光能,但它容易发生光腐蚀,使用寿命有限。相对而言,Ti02的综合性能较好,是广泛使用和研究的单一化合物光催化剂。



活性炭除臭设备是等体积传统活性炭过滤设备过滤面积的2~4倍,阻力只有传统的1/2~1/3。环形活性炭净化装置由于采用切线出风,其方向不受场地条件限制可任意摆放,抽风机和设备对接极易,排放管可直接固定于设备上,系统整齐合理, 废气的产生部位比较多,并且分散在车间中,因此在处理废气之前必须先把废气收集起来,所以需要集气系统对其进行收集后统一进行处理, 在车间机器产生废气的具体部位加上密闭系统,然后安装相对应的管道,利用风机作用将废气抽出;另外,一方面在车间四周的地面部位安装一定量的鼓风机,将车间内散布的废气由下而上鼓气,另一方面在车间顶部安装抽风机,使抽气量大于鼓风量,从而车间内产生一定的低负压,保证了车间内废气不会像外扩散。抽出的废气统一由管道外送进行处理。




催化燃烧废气处理设备。解吸后的吸收剂经过溶剂冷凝器冷凝后回到吸收塔。解吸出的VOCs气体经过冷凝器、气液分离器后以较纯的VOCs气体离开汽提塔,被回收利用。该工艺适合于VOCs浓度较高、温度较低的气体净化,其他情况下需要作相应的工艺调整。 催化燃烧废气处理设备 根据状态、温度和离子密度,等离子体通常可以分为高温等离子体和低温等离子体(包子体和冷等离子体)。其中高温等离子体的电离度接近1,各种粒子温度几乎相同系处于热力学平衡状态,它主要应用在受控热核反应研究方面。而低温等离子体则学非平衡状态,各种粒子温度并不相同。其中电子温度( Te)≥离子温度(Ti),可达104K以上,而其离子和中性粒子的温度却可低到300~500K。一般气体放电子体属于低温等离子体。




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